Sputteringsmål for halvledere
Halvlederbrikkeindustrien er et av hovedbruksområdene for metallforstøvningsmål, og det er også feltet med de høyeste kravene til sammensetning, organisering og ytelse av målmaterialer. Nærmere bestemt kan produksjonsprosessen av halvlederbrikker deles inn i tre hovedledd: produksjon av silisiumwafer, waferproduksjon og brikkepakking. Blant dem trengs metallforstøvningsmål i både wafer-produksjon og chip-emballasje. Rollen til metallforstøvningsmål for halvlederbrikker er å lage metalltråder for overføring av informasjon på brikken. Den spesifikke forstøvningsprosessen: Bruk først høy-ionestrøm for å bombardere overflatene til forskjellige typer metallforstøvningsmål under høyvakuumforhold, slik at atomene på overflatene til forskjellige mål avsettes lag for lag på overflaten av halvlederbrikken, og deretter gjennom en spesiell prosesseringsteknologi, blir metallfilmen avsatt på overflaten av sputteren, osv.{5} koble hundrevis av millioner av mikrotransistorer inne i brikken til hverandre, og dermed overføre signaler. Metallforstøvningsmål for halvlederbrikkeindustrien.
Hovedkategorier
Hovedtypene inkluderer: høy-forstøvningsmål som tantal, niob, vanadium, hafnium, zirkonium, krom, aluminium, titan, kobber, kobolt og wolfram, samt legeringsmål for forstøvning som nikkelplatina, wolframtitan osv. Kobbermål og kobbermål brukes vanligvis sammen. For tiden går produksjonen av wafere mot mindre prosesser, og bruken av kobbertrådprosesser øker gradvis. Derfor forventes etterspørselen etter kobber- og tantalmål å fortsette å vokse. Aluminiumsmål og titanmål brukes vanligvis sammen. For øyeblikket, innen elektroniske brikker for biler som krever teknologinoder over 110nm for å sikre stabilitet og anti{7}}interferens, er det fortsatt behov for aluminium- og titanmål i store mengder. Bruk av forskjellige forstøvningsmål Høy-forstøvningsmål inkluderer tantalmål, niobmål, vanadiummål, hafniummål, wolframmål, zirkoniummål, titanmål, osv. Disse produktene brukes hovedsakelig i den fysiske dampavsetningsprosessen (PVD) av ultra{{11}2}integrerte kretsbrikker i ultra{11}2}, storskala og flytende kretsbrikker, tynne-filmsolceller for fremstilling av elektroniske tynnfilmmaterialer. Selskapets produkter brukes hovedsakelig innen halvledere, flatskjermer, solceller og andre felt.
Om Tantalmål
Betydningen av tantalmål ligger ikke bare i at de støtter den teknologiske fremgangen til strategiske industrier som halvledere og ny energi som funksjonelle materialer, men også i at deres ytelse direkte bestemmer kvaliteten og tekniske barrierene til terminalprodukter. Samtidig er gjennombruddet innen tilberedningsteknologien deres av stor strategisk betydning for den uavhengige kontrollen av den nasjonale-high-end produksjonsindustrikjeden. I fremtiden, med oppgraderingen av chipproduksjonsprosesser og utvidelsen av nye energiindustrier, vil etterspørselen etter tantalmål fortsette å vokse, og deres teknologiske konkurranse vil også bli en viktig manifestasjon av den høye-produksjonsevnen til ulike land.
Utmerket produsent av tantalmål
Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. er en leder i den innenlandske sjeldne metallsputtering-målindustrien. Det har vært fokusert på tantalmål, niobmål, vanadiummål, hafniummål, wolframmål, zirkoniummål og titanmål i mange år. Med moden prosessteknologi og avansert utstyr er det en leverandør som er pålitelig og anerkjent av mange kunder.
I tillegg til å være førstevalget til mange nasjonale forskningsinstitutter og høyskoler og universiteter i Kina, eksporteres produktene deres også til Russland, Tyskland, Sør-Korea, Japan og andre land. Hvis du leter etter en utmerket leverandør, vil de gi deg uventet verdi og opplevelse.
Salgssjef
Kontakt: Daisy Lee
E-post: kd@tantalumysjs.com
Whatsapp/Skype:+86 13379388917
Telefon/WeChat: +86 13379388917
Faks: 0917-3139100
Postnummer: 721013
Nettsted: www.tantalumysjs.com
Legg til: Wenquan landsbyens industrisone, Gaoxin Development Zone, Baoji City, Shaanxi-provinsen, Kina
